Поставщик плат и эпитаксии из составных полупроводников | Power Wafertech Group

ЦЕНТР ПРОДУКТА

Найдите подходящую пластину для вашей программы.

Ознакомьтесь с нашими стандартными полупроводниковыми подложками и эпи-пластинами — или сотрудничайте с инженерами для создания индивидуальных спецификаций.


Поиск и классификация продукции

Поиск по материалам. Уточняйте по спецификациям.

Быстро найдите стандартные полупроводниковые пластины или запросите индивидуальные спецификации для вашей программы.

III-V полупроводниковые эпитаксиальные пластины

III-V полупроводниковая эпитаксиальная пластина

Точные гетероструктуры, выращенные с помощью MOCVD/MBE, на субстратах InP, GaSb и GaAs. Разработан для высокопроизводительных HEMT, pHEMT, HBT, лазерных диодов, VCSEL и ИК-детекторов. Поддержка индивидуальных эпи-структур — от исследований и разработок до массового производства.

Посмотреть продукт

Пластины SiC

Субстрат SiC

Подкладочные пластины SiC для энергетических, радиочастотных, оптоэлектронных и современных полупроводниковых применений. Доступны в вариантах 4H-SiC, 6H-SiC и 3C-SiC, с вариантами N-типа, P-типа и полуизоляционного покрытия, с разными размерами пластин, уровнями легирования и отделкой поверхности.
Посмотреть продукт

Пластины SiC

SiC эпитаксия

Наши эпитаксиальные пластины SiC — выращенные с помощью CVD на субстратах SiC — обеспечивают хорошо контролируемую однородность и низкую плотность дефектов, формируя надёжную платформу для SBD, MOSFET, JFET, IGBT, GTO, BJT и так далее от 600 В до 10 кВ.
Посмотреть продукт

Шаблон AlN

AlN на кремниевом шаблоне

AlN на кремниевых шаблонах обеспечивает высококачественный интерфейс и буферную платформу для последующего GaN-эпитаксии, поддерживая разработку высокопроизводительных устройств питания и радиочастоты GaN.
Посмотреть продукт

Шаблон AlN

AlN на Sapphire Template

Шаблоны AlN на основе сапфира доступны в различных размерах пластин и с настраиваемой толщиной и ориентацией AlN, шаблоны AlN на сапфире с высоким кристаллическим качеством и низкой плотностью дефектов подходят как для исследований и разработок, так и для разработки в производстве устройств.
Посмотреть продукт

ТРИ СЕМЕЙСТВА ОСНОВНЫХ МАТЕРИАЛОВ

Дорожная карта инженерных материалов для вашего устройства

Просматривайте субстраты и эпи-пластины по материальным семействам. Стандартные конфигурации и индивидуальные спецификации доступны для исследований и разработок и массового производства.

ПРИМЕНЕНИЕ И ОТРАСЛИ

Применение и отрасли

CASE 01 / ВЫСОКОВОЛЬТНЫЕ СИСТЕМЫ

Силовая электроника

Решения для широкополосных пластин, разработанные для архитектур 800V+. Обеспечивая высокоэффективное преобразование энергии, быстрое переключение и надёжную работу при высоких температурах.

ФОКУС НА ПРИМЕНЕНИИ

Силовые установки электромобилей · Быстрая зарядка · Промышленные моторные приводы

РЕКОМЕНДУЕМЫЕ ПРОДУКТЫ

4H-SiC GaN

ПРОЦЕСС ВОВЛЕЧЕНИЯ

Как развивается индивидуальный запрос

Подайте требования, специфичные для конкретной программы, и наши инженеры проведут их от оценки до подтверждённого предложения.

ИНДИВИДУАЛЬНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ

Параметры, выходящие за рамки стандартного списка

Индивидуальный диаметр и толщина
Ориентация и отклонение
Легирование и сопротивление
Тонкие пленки и слои
Профиль поверхности и краёв
Маркировка и упаковка
01Требования к подаче
02Инженерный обзор
03Выравнивание спецификаций
04Стоимость и сроки выполнения
Поговорите с инженером

ТЕХНИЧЕСКОЕ РАССЛЕДОВАНИЕ

Поговорите с инженерами о ваших потребностях в пластинах

Поделитесь материалом, размерами, техническими характеристиками, заявкой или стадием проекта. Наша команда рассмотрит ваши требования и ответит в течение одного рабочего дня.

Реакция, основанная на инженерах

Запросы направляются в соответствующую техническую или коммерческую команду.

Адрес

No 1389, улица Ляньмэй, промышленная зона Ляньхуа, Тунъань, Сямэнь, Фуцзянь 361100, Китай

Телефон

+86-592-5633652

Электронная почта

victorchan@powerwafertech.com

Загрузка файла
Электронная почтаvictorchan@powerwafertech.com Телефон+86-592-5633652