III-V полупроводниковые эпитаксиальные пластины
III-V полупроводниковая эпитаксиальная пластина
Точные гетероструктуры, выращенные с помощью MOCVD/MBE, на субстратах InP, GaSb и GaAs. Разработан для высокопроизводительных HEMT, pHEMT, HBT, лазерных диодов, VCSEL и ИК-детекторов. Поддержка индивидуальных эпи-структур — от исследований и разработок до массового производства.