Поставщик плат и эпитаксии из составных полупроводников | Power Wafertech Group

О POWER WAFERTECH GROUP
Точно инженерные пластины
Power Wafertech Group (PWG) — это производитель материалов с полным циклом составных полупроводниковых субстратов и эпитаксиальных пластин, включая SiC, GaN, InP, GaAs, GaSb и InSb. Мы контролируем основные процессы — от выращивания кристаллов и изготовления субстрата до эпитаксиального осаждения — обеспечивая безопасность цепочки поставок и строгую согласованность материалов.

Мы поддерживаем глобальных клиентов строгим соблюдением спецификаций, полной пакетной прослеживаемостью и быстрой поддержкой от инженера к инженеру. От R&D прототипирования до повторного производства — мы предоставляем документированные, качественные материалы для ваших устройств.
Изучите наш инженерный подход
25+
Годы работы в отрасли
Опыт работы в отрасли
500+
Обслуживаемые клиенты
Обслуживаемые программы для клиентов
4
Производственные площадки
Производственная сеть
QA
Документация по качеству
Объем подтверждён по запросу
ПОРТФЕЛЬ ПРОДУКТОВ
Субстраты и эпитаксиальные пластины
Три специализированных семейства продуктов: стандартные и кастомные субстраты, эпитаксиальные пластины и специализированные конфигурации для требовательных программ устройств.
Субстратные пластины
Субстраты с низким содержанием дефектов для требовательного изготовления устройств.
МАТЕРИАЛЫ
SiC · GaN · AlN · GaAs · InP · GaSb · InSb · Кремний
ПРИМЕНЕНИЕ
Силовые устройства · RF · Фотоника · Датчики
Эпитаксиальные пластины
Точное эпитаксиальное выращивание с плотной толщиной и контролем легирования.
СООРУЖЕНИЯ
На основе SiC · GaN · На основе GaAs · На основе InP · На базе GaSb
ПОДДЕРЖКА ПРОГРАММ
MOCVD / MBE · Быстрое прототипирование · Серийное производство
Кастомные и специализированные пластины
Индивидуальные пластины для нестандартных спецификаций и специализированных программ устройств.
ВОЗМОЖНОСТИ ОБРАБОТКИ
Полировка · Нарезание пластин · Прореживание · Покрытие
ИНДИВИДУАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Нестандартные размеры · Индивидуальные конструкции
НАЙТИ ПО ПРИЛОЖЕНИЮ
Применение и отрасли
Инженерные материалы, адаптированные к вашим требованиям по напряжению, теплу и производству.
ИЗБРАННОЕ ПРИМЕНЕНИЕ
Силовая электроника
Оптимизировано для высоковольтных, высокоэффективных силовых устройств. Поддержка требовательных приложений, таких как силовые агрегаты электромобилей, инверторы возобновляемой энергии и источники питания для дата-центров на базе ИИ.
РЕКОМЕНДУЕМЫЕ РЕШЕНИЯ
SiC · GaN
Исследуйте энергетические решения
ПОЧЕМУ POWER WAFERTECH
Больше, чем поставщик пластин
От индивидуальной спецификации до повторного производства. Мы обеспечиваем инженерное сотрудничество и безопасность цепочки поставок, необходимые вашей программе.
01
Инженерная кастомизация
Индивидуальные материалы, адаптированные к вашим спецификациям устройства. Мы определяем точные параметры — размеры, ориентацию и отделку поверхности — чтобы соответствовать вашим конкретным потребностям применения.
02
Поддержка от разработки до производства
Бесшовный переход от НИОКР к массовому производству. Преодоление разрыва с помощью быстрого прототипирования, гибких низкообъёмных работ и безопасного повторного производства.
03
Контролируемое качество и отслеживаемость
100% проверка в процессе с полной отслеживаемостью партий. Строгий контроль процессов и задокументированные данные тестирования обеспечивают стабильное качество и безопасные, долгосрочные поставки.
КАЧЕСТВО И ПОДДЕРЖКА ПРОГРАММ
Встроенное качество. Комплексная инженерная поддержка.
Качество внедряется на каждом этапе — от выбора входящих материалов и управления процессом SPC до финального тестирования. Мы предоставляем полную документацию, строгое соблюдение спецификаций и оперативную поддержку от инженера к инженеру, чтобы обеспечить бесшовный переход от прототипа к массовому производству.
Сертифицированные процессы качества ISO 9001
Отслеживаемость пакетов и CoC
Полные отчёты по тестам и CoA
Быстрая поддержка от инженера к инженеру
Поговорите с инженером
ДОВЕРЕННОЕ СОТРУДНИЧЕСТВО
Поддержка промышленности, исследований и новых технологий
Ускорение инноваций в материалах — от НИОКР к массовому производству. Сотрудничество с лидерами отрасли и исследовательскими учреждениями по индивидуальным пластинам, специализированному производству и безопасным объемным поставкам.
ОТРАСЛЕВЫЕ ПРОГРАММЫ
Масштабируемость от прототипа до массового производства
Предоставляя производителям полупроводников индивидуальные спецификации, быстрое прототипирование и безопасные цепочки поставок с большим объемом.
ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКОЕ СОТРУДНИЧЕСТВО
Индивидуальные материалы для специализированных исследований
Сотрудничество с ведущими исследовательскими институтами по оценке новых материалов, индивидуальной эпитаксии и нестандартному изготовлению пластин для ускорения научных прорывов.
ПРОЕКТЫ НОВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ
Гибкая поддержка программ на ранних стадиях
Предоставление гибких пилотных запусков с низким объёмом, быстрого прототипирования и профессионального технического руководства для конфиденциальных программ под строгой защитой NDA.
Сеть сотрудничества
Пользуется доверием мировых лидеров отрасли и ведущих исследовательских институтов.
RESEARCH NETWORK
MATERIALS PARTNER
DEVICE PROGRAM
TECH COLLABORATION
GLOBAL SERVICE
RESEARCH NETWORK
MATERIALS PARTNER
DEVICE PROGRAM
TECH COLLABORATION
GLOBAL SERVICE
НОВОСТИ И АНАЛИТИКА
Последние новости от Power Wafertech
Просмотреть все новости
Тенденции отрасли
2026-09-01 14:19:48
8-дюймовая точка перегиба SiC: что значит 2026 год для покупателей субстрата и эпитаксии
8-дюймовые субстраты SiC переходят от пилотного к основному. Изучите вопросы поставок, ценообразования и эпитаксии в 2026 году для производителей энергетических устройств.
Тенденции отрасли
2026-09-01 14:20:09
800 В HVDC и стойка искусственного интеллекта: как архитектура питания дата-центров переписывает спрос на широкий диапазон пропускного тока
Стойки с искусственным интеллектом перерастают с 10 кВт до более чем 100 кВт. Узнайте, как архитектура 800 В HVDC распределяет спрос между SiC и GaN, и что это значит для характеристик эпиваферов.
Технические инсайты
2026-10-23 17:24:21
InP HEMT Epitaxial Wafers: низкий уровень шума и индивидуальный рост
Толщина слоя спейсера сильно влияет на криогенный шум в InP HEMT, обеспечивая оптимизированный баланс между мобильностью, управлением затвором и передачей в реальном пространстве. Легирование и стабильность слоя крышек также должны разрабатываться совместно с процессами металлизации и отлёта, чтобы поддерживать низкое сопротивление контакту.

ТЕХНИЧЕСКОЕ РАССЛЕДОВАНИЕ

Поговорите с инженерами о ваших потребностях в пластинах

Подайте материал, спецификации и этап проекта. Наша инженерная команда отреагирует в течение 1 рабочего дня.

Прямая поддержка от инженера к инженеру

Ваш запрос направляется напрямую нашей технической команде для быстрого и компетентного ответа.

Адрес

No 1389, улица Ляньмэй, промышленная зона Ляньхуа, Тунъань, Сямэнь, Фуцзянь 361100, Китай

Телефон

+86-592-5633652

Электронная почта

victorchan@powerwafertech.com

Загрузка файла
Электронная почтаvictorchan@powerwafertech.com Телефон+86-592-5633652